過去一年中，大型硅片格式的迅速崛起已經(jīng)證明，光伏系統(tǒng)某一領(lǐng)域的技術(shù)進步，往往會對另一領(lǐng)域提出新的要求。 目前，抗反射涂層(ARCs)已在模塊生產(chǎn)中被廣泛應用于前側(cè)玻璃面板，這一技術(shù)的使用，也對串聯(lián)電池和多結(jié)電池的概念提出了新的挑戰(zhàn)。串聯(lián)電池和多結(jié)電池可吸收的太陽光譜范圍更大，其產(chǎn)生的反射范圍也更大，這意味著抗反射涂層 (ARCs)需要在更大范圍內(nèi)減少反射。 馬德里理工大學的科學家們通過研究抗反射涂層在III-V 多結(jié)電池概念中的作用，特別是某些小眾應用領(lǐng)域，例如衛(wèi)星供電和空間探索等領(lǐng)域的應用，致力于尋求這一問題的解決方案。他們的全部研究成果發(fā)表在《太陽能》雜志上，題目是多結(jié)太陽能電池寬波長抗反射涂層的高低折射率疊層。

在論文中，該小組指出，目前最新的改進抗反射涂層的方法，通常包括：（1）在涂層上添加額外的層；（2）使用復雜的納米結(jié)構(gòu)或等離子體來制作涂層——所有這類方法都會增加制造過程的復雜性和材料消耗量。

考慮到這一點，科學家們堅持使用只有高低折射率這兩種材料交替組合而成的薄雙層來制作抗反射涂層。該團隊還發(fā)明了一套算法，用于計算兩種不同類型的III-V太陽能電池的最佳涂層設(shè)計，并證明高低折射率組合涂層可以顯著提高電池效率。

在對各種電池技術(shù)的模擬實驗中，使用上述方法進行涂層設(shè)計后，其效率提高了1 – 5%。相比現(xiàn)有的多結(jié)太陽能電池抗反射涂層處理技術(shù)，該團隊還指出了“高低折射率疊層”技術(shù)在大規(guī)模生產(chǎn)中的幾個潛在優(yōu)勢，該技術(shù)據(jù)說已被其他行業(yè)用于玻璃涂層生產(chǎn)，經(jīng)適當調(diào)整后即可用于當前的光伏制造業(yè)。

高低折射率疊層抗反射涂層（HLIS ARC）的優(yōu)點在于其只需使用兩種材料，與具有梯度基層的多層抗反射涂層（例如：三層或四層抗反射涂層）相比，HLIS ARC減少了對新材料的需求”，科學家們總結(jié)道，“這種技術(shù)解決方案非常簡單，且事實證明高低折射率疊層對基層厚度的微小變化似乎并不敏感，這也使它們更有希望進入實際應用領(lǐng)域。”