等離子刻蝕和沉積系統(tǒng)制造商牛津儀器公司(Oxford Instruments)日前宣布，在北京和臺灣舉辦兩場為期一天的研討會，將聚焦于納米級等離子工藝。

 

這兩場研討會之前，牛津儀器曾在中國舉辦一系列研討會，吸引了逾兩百名參與者。

 

這兩場研討會預計將分別于今年五月十四日在中國北京舉行，五月十六日在臺灣新竹工業(yè)技術(shù)研究院(ITRI)舉行。

 

除了牛津儀器公司等離子技術(shù)的處理和應用專家，該研討會還將包括中國大陸、臺灣和歐洲的多名演講嘉賓和專家的發(fā)言。

 

每個為期一天的計劃都將涉及一系列主題，包括原子層沉積(ALD)、光伏(PV)、深硅刻蝕、發(fā)電設備、高亮度發(fā)光二極管(HBLED)和離子束技術(shù)。

 

中國科學院北京半導體研究所楊福華表示：“兩年前我們曾與牛津儀器舉辦過此類研討會，獲得巨大成功，逾一百人參加。不同領域的發(fā)言人的演講內(nèi)容極佳，并且信息量相當大。這兩場研討會是在非正式場合下發(fā)現(xiàn)新技術(shù)的絕佳方式，并且有大量時間與專家交流。”

 

開幕式發(fā)言人牛津儀器等離子技術(shù)亞洲區(qū)業(yè)務經(jīng)理Jeffrey Seah表示：“我們期待在中國大陸和臺灣的這兩場研討會有大量觀眾參與，并且非常榮幸如此多著名的發(fā)言人已接受我們的邀請，講述他們在等離子工藝領域的工作。我們的研討會為等離子工藝領域提供一個重要的機遇，走到一起分享他們的經(jīng)驗，并且更多了解各自領域領先的國際專家。”

 

根據(jù)此前在北京和上海研討會的成功，牛津儀器預計學術(shù)界和生產(chǎn)部門將熱情參與。

 

此次研討會免費參加，但需在線預訂。