東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)可在非真空工藝下形成太陽能電池透明導電膜的裝置“TMmist”已開始銷售。該裝置可削減設置面積、提高太陽能電池的轉換效率及降低制造成本等。預計2014年度會獲得約10億日元，2015年度會獲得約20億日元的訂單。

圖1：應用于CIGS太陽能電池生產(chǎn)線

TMmist采用霧化CVD法，就是將成膜材料的溶液利用超聲波霧化后，令其在基板上進行分解和反應形成薄膜。因不會像濺鍍設備那樣會對基板造成等離子損傷，所以有望提高太陽能電池的發(fā)電效率和品質(zhì)。

圖2：研發(fā)裝置的外觀

另外，其還有成膜速度快的特點。在制造氧化鋅透明導電膜時，成膜速度可達650nm/分。而原來的方法如蒸鍍法，成膜速度只有數(shù)nm/分、濺鍍設備約為200nm/分。由成膜速度的提高，制造裝置的設置面積可削減約30％。